<<<<<<<<<<<<<< CRC News 2014年 6月 26日 >>>>>>>>>>>>>> ＣＲＣ会員 各位 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　ＣＲＣ事務局 *******< KEK測定器開発室セミナー(2014.7.10) LSI製造技術の基礎 >******* 関連分野の皆様 KEK測定器開発室では高エネルギー・原子核およびその関連分野の測定器技術・ 応用に関する知見を深めるため、不定期でセミナーを開催しております。 今回のセミナーは、KEK測定器開発室　倉知郁生氏にSI製造技術の基礎について ご講演していただきます。 ----------------------------------------------------------------------- 講師紹介： 倉知氏はOKIセミコンダクタ社及び台湾のPowerchip Technology社において30 年以上に渡り半導体プロセスの専門家として現場で活躍されて来た方です。OKI セミコンダクタ時代には、KEKとの共同研究でSilicon-On-Insulator(SOI)技術を 用いたピクセル検出器の開発にも協力していただきました。 本年３月からは、KEKの特別教授として赴任していただき、SOI検出器及び超伝 導検出器等のプロセス改良、特に放射線耐性の強化やリーク電流の低減等に関し 、専門家の目で検証していただいています。また、厳しい半導体ビジネスでの 経験を活かし、各種応用や実用化に向けた活動にも意欲を持っておられます。 ----------------------------------------------------------------------- 多数ご参集いただきますようよろしくお願いします。 期日が近くなりましたらリマインドさせていただきます。 ＴＶ会議システム等での中継も可能です。 ご希望の方は担当者までお問い合わせください。 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　KEK測定器開発室 　　　　　　　　　　　　　　　　　　記 　　　　　　　　　　　　　測定器開発室セミナー 日　時：2014年７月１０日（木）13時半から15時 場　所：３号館３階３２５室 題　目：「LSI製造技術の基礎」 講　師：倉知郁生特別教授　KEK測定器開発室 概　要： 高エネルギー・原子核およびその関連分野の測定器に関しても、その性能は使用 されている半導体デバイス（LSI）の性能で決まっている。また、LSIは信号処理 をする回路ばかりではなく、センシングデバイスそのものとしても用いられてい る。 本講演においては、LSI製造方法について標準となるロジックプロセスを基に 平易に且つ詳細に解説する。さらに、各プロセスステップでどのように工程が 管理されているかを紹介していく。これらLSI製造に関する基礎知識により、 回路設計という観点ばかりでなく、LSIデバイスそのものにも踏み込む今後の 測定器開発の一助になることを期待する。 担　　当：新井（yasuo.arai_at_post.kek.jp） 高エネルギー加速器研究機構 測定器開発室 http://rd.kek.jp/seminar_01.html ************************************************************